包括雙層水冷爐殼，電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統，電源和控制柜（如果需要的話，還有脫蠟裝置和氣氛處理裝置）。根據不同的工藝要求，爐殼材料可以是低碳鋼或不銹鋼。爐體可以是臥式設計，也可以是立式設計。加熱控制 區的數量多可以達到8個（或更多），通過調整這些熱區的數量和布局可以獲得較好的均溫性，部分爐型可以優于±2°C。

  如果要求較高的均溫性或工藝，如配備脫蠟工藝步驟時，熱區內就會配有密閉的石墨箱。

  利用大量流動的工藝氣體可以做產品的化學處理，如石墨制品或CFC制品的高溫化學純化，工藝氣體可以是N2, Ar, CH4, H2, HCl, R12, R134a等。

  對于抽真空，可以使用大量不同類型的泵組。根據工藝要求，可以獲得的壓力范圍是0.1 mbar (10 Pa) 到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa)。

  微處理器控制的程序順序可確保工藝的全自動化和可重復性、以及穩定的產品質量。計算機操作界面和相應的數據處理系統可以滿足高可靠質量控制的要求。

特點：

設計溫度 2200°C.

有效體積從 4.5 升 到 13立方米 (可以更大，取決于客戶的要求)

采用獨立加熱器分區加熱

在有效空間內的均溫性可以達到±2 K

真空范圍可達到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa).

用于模壓件和擠壓件的高效脫蠟系統

能在可燃氣體下安全可靠地操作

整個工藝全自動操作

通過PC進行操作，包括數據記錄和數據存儲等.