.jpg "鑫有研光刻機（lithography）掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)")
商鋪名稱：上海鑫有研電子科技有限公司
聯(lián)系人：陳經理（先生）
聯(lián)系手機：
固定電話：
企業(yè)郵箱：siyouyen@sina.com
聯(lián)系地址：上海市楊浦區(qū)寧國路313號龍澤大廈9號906室
郵編：200090
聯(lián)系我時，請說是在線纜網上看到的，謝謝！
| 產品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 鑫有研 | ||
.jpg)
.jpg)
.jpg)
.jpg)
.jpg)
.jpg)
.jpg)
光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。
常見光源分為:
可見光：g線：436nm
紫外光（UV），i線：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 準分子激光：248 nm, ArF 準分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
