鑫有研光刻機(lithography)掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統
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      光刻機(lithography)又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
      曝光系統最核心的部件之一是紫外光源。
      常見光源分為:
      可見光:g線:436nm
      紫外光(UV),i線:365nm
      深紫外光(DUV),KrF 準分子激光:248 nm, ArF 準分子激光:193 nm
      極紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

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