該實驗室平板加熱盤是一種理想且通用的加熱盤，適用于蒸餾、萃取、消解等實驗室工作，頂盤耐化學品侵蝕且易清洗，鋁制盤，由一個50瓦的內(nèi)部加熱元件加熱，其優(yōu)越的溫度傳導(dǎo)性使整個加熱表面獲得均勻、一致的熱量。靈敏的“無幅度”溫度控制通過水壓式溫度調(diào)節(jié)器獲得，具有最小化的高溫擊穿，使靈敏性高的材料在較低的臨界溫度下的處理得到可能，當加熱開啟時指示燈亮，專門的熱輻射屏蔽使得設(shè)備在持續(xù)運轉(zhuǎn)中得到相應(yīng)的冷卻。該款加熱盤近似溫度范圍40-200度，頂盤尺寸100*200cm