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超聲波清洗是用在晶片清洗機的一種常規的清洗技術，超聲波清洗機可以有效去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性。根據不同清洗工藝配置相應的清洗單元，各部分有獨立控制，隨意組合。
超聲波清洗機主要作用于：
1. 光刻后清洗中的去除光刻膠；
2. 氧化前清洗中去掉硅片表面所有的沾污物
3. 拋光后清洗中去掉切、磨、拋的沾污；
4. 外延前清洗中除去埋層擴散后的SiO2及表面污物；
等等去除各種清洗中可去除的沾污物
