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　　鉻是一種微帶藍色的銀白色金屬，相對原子質量51.99，密度6.98～7.21g/cm3，熔點為1875～1920℃，標準電極電位為尤什/c，-0.74V，老”/c，”-0.41V和P甚e+/Cr抖-1.33V，金屬鉻在空氣中極易鈍化，表面形成一層極薄的鈍化膜，從而顯示出貴金屬的性質。

　　鍍鉻層具有很高的硬度，根據鍍液成分和工藝條件不同，其硬度可在很大范圍400～1200HV內變化。鍍鉻層有較好的耐熱性，在500℃以下加熱，其光澤性、硬度均無明顯變化，溫度大于500℃開始氧化變色，大于700℃硬度開始降低。鍍鉻層的摩擦系數小，特別是干摩擦系數，在所有的金屬中是最低的。所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。下面來講講鍍鉻層厚的計算方法。

　　一 可以按如下公式計算：

　　鍍鉻厚度(微米)= 鉻的電化當量(克/安培小時) 陰極電流密度(安培/分米2) 電鍍時間(分) 陰極電流效率(%)/ 60 鍍鉻層密度(克/厘米3)。

　　二 以下方法可直接、方便知道鍍鉻的沉積速度

　　HEEF-25 快速鍍鉻的沉積速度

　　電流密度(A/dm2) 鍍層沉積速度(微米/小時)

　　30 30

　　45 50

　　60 70

　　75 90

　　(HEEF-25 快速鍍鉻的電流效率達到25%左右，其沉積速較快，普通鍍鉻的電流效率在13%左右，可知其沉積度約為 HEEF-25的1/2左右)。

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